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专利侵权躲避设计

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细致介绍：

专利躲避次要是指针对竞争敌手的专利壁垒，找出其在掩护地区、掩护内容等方面的信息，在完成在不侵占其专利权的条件下，“借用”该专利技能或绕开该专利技能，从而使企业制止在消费贩卖历程侵占别人的专利权。

东尚状师事件所依附多年的专利署理和专利诉讼履历，对竞争者的专利举行剖析，从中研讨失掉可以替换的躲避设计方案，让您的产品能顺遂上市的同时制止侵占别人的专利权

专利侵权剖析

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地点：ag在线市中华南大街380号盛景大厦六层


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